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    [新品] 硫酸頭孢喹肟膠體磨(CMD2000)

    硫酸頭孢喹肟膠體磨
    供應商參考報價:¥238560
      供應商信息
    · 上海依肯機械設備有限公司 [上海市]
       
    聯系人: 段明明
    所在城市: 上海市 上海市
    詳細地址: 上海松江區陳春公路700號
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    詳細信息  

    硫酸頭孢喹肟膠體磨,頭孢喹肟膠體磨,硫酸頭孢喹肟混懸液膠體磨,硫酸頭孢喹肟注射液膠體磨是透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎的效果。

    硫酸頭孢喹肟膠體磨,微均勻,微粒大小應符合該劑型的要求;微粒沉降緩慢,口服混懸劑沉降體積比應不低于0.90,沉降后不結塊,輕搖后應能迅速分散;混懸劑的粘度應適宜,傾倒時不沾瓶壁;外用混懸劑應易于涂布,不易流散;不得有發霉、酸敗、變色、異臭、異物、產生氣體或其他變質現象;標簽上應注明用前搖勻

     

    混懸劑中的微粒由于受重力作用,靜置后會自然沉降,其沉降速度服從Stokes定律: 

      按Stokes定律要求,混懸劑中微粒濃度應在2%以下。但實際上常用的混懸劑濃度均在2%以上。此外,在沉降過程中微粒電荷的相互排斥作用,阻礙了微粒沉降,故實際沉降速度要比計算得出的速度小得多。由Stokes定律可見,混懸微粒沉降速度與微粒半徑平方、微粒與分散介質密度差成正比,與分散介質的粘度成反比。混懸微粒沉降速度愈大,混懸劑的動力學穩定性就愈小。 

      為了使微粒沉降速度減小,增加混懸劑的穩定性,可采用以下措施:①盡可能減小微粒半徑,采用適當方法將藥物粉碎得愈細愈好。這是***有效的一種方法。②加入高分子助懸劑,既增加了分散介質的粘度,又減少微粒與分散介質之間的密度差,同時助懸劑被吸附于微粒的表面,形成保護膜,增加微粒的親水性。③混懸劑中加入低分子助懸劑如糖漿、甘油等,減少微粒與分散介質之間的密度差,同時也增加混懸劑的粘度。這些措施可使混懸微粒沉降速度大為降低,有效地增加了混懸劑的穩定性。但混懸劑中的微粒***終總是要沉降的,只是大的微粒沉降稍快,細小微粒沉降速度較慢,更細小的微粒由于布朗運動,可長時間混懸在介質中。 

    硫酸頭孢喹肟膠體磨  選定的膠體磨作為生產頭孢噻呋、頭孢喹肟等混懸液的關鍵設備,由于價格較貴,需要在廠家現場試驗,考察研磨效果。為做好此項工作,制定方案如下:

    一、          周一高新區設備員根據三個廠家提供的資料,結合高新區的產能,優選出2家設備,并確定設備的型號。同時確認***小試驗數量,以及試驗現場是否有檢驗研磨粒度的儀器。

    二、          周一高新區水針車間根據廠家提供的***小配料量,配制試驗兩家設備的物料。

    1、由于硫酸頭孢喹肟的價格較貴,本次試驗采用鹽酸頭孢噻呋,暫不考慮喹肟(喹肟研磨時間較長)。

    2、初步按照每家設備4升體積的試驗量,準備8升數量的物料。具體物料數量由研發提供,高新區提供。

    3、根據試驗數量,周一做出相應比例的油膠溶液。準備試驗器材。

    三、          試驗方案

    試驗目的:檢驗膠體磨的研磨效果以及效率

    試驗器材:試驗用膠體磨、顯微鏡、載玻片、涂針、留樣瓶、封口鉗、8號針頭、注射器,1ml移液管,溫度計。

    試驗步驟:

    1、現場確認設備的型號、性能、以及清洗方式。

    2、加入物料,設定3分鐘的研磨時間(假定4升物料研磨5分鐘合格,那么放大至80升物料,需要研磨60分鐘),取樣檢測粒度,記錄粒度分布數量。用移液管測量流速,用8號針頭測量通針性。以上數據作為比較兩家設備的參數。

    3、如果3分鐘沒有達到效果,則繼續進行5分鐘試驗。以此類推,繼續做好數據檢測。

    4、在研磨性能試驗完成以后,利用現有物料對膠體磨進行連續開機試驗,初步定為30分鐘,試驗膠體磨的產熱降溫性能。測量機體軸承處溫度、測量研磨腔出來的料溫溫度,顯微鏡檢查料液中是否有金屬碎屑。以上數據作為比較兩家設備的數據。

     

      硫酸頭孢喹肟膠體磨  膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。

    ***級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗指定工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出***終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

    CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

     

    硫酸頭孢

    研磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    CMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    CMD 2000/5

    3000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    CMD 2000/10

    8000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    CMD 2000/20

    20000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    CMD 2000/30

    40000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    CMD2000/50

    120000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到***大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。 2 處理量取決于物料的粘度,稠度和***終產品的要求。
    硫酸頭孢喹肟膠體磨,頭孢喹肟膠體磨,硫酸頭孢喹肟混懸液膠體磨,硫酸頭孢喹肟注射液膠體磨是透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎的效果。 ***高轉速可以達到21000轉  比一般國產3000轉不知要強大多少倍
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